清空記錄
歷史記錄
取消
清空記錄
歷史記錄
在現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展中,電子電路正朝著超大規(guī)模集成電路方向發(fā)展。印刷線路板作為元件,幾乎每種電子設(shè)備中都要使用它,用以安裝集成電路等元件并提供它們之間電路的互相連接。以絕緣板為基材加工成一定尺寸的電路板,在其上面至少有一個(gè)導(dǎo)線圖形及所有設(shè)計(jì)好的孔(如:元件孔,機(jī)械安裝孔及金屬化孔等),以實(shí)現(xiàn)元器件之間的電器互聯(lián),這種板被稱為印刷線路板。
印刷電路板(PCB)是一種重要的電子部件,通常作為電子元器件的支撐體和電子元器件電氣連接的載體使用。
印刷電路板的制作過(guò)程一般包括化學(xué)清洗、涂光刻膠、曝光顯影、蝕刻、去膜等步驟,在印刷電路板蝕刻的工藝過(guò)程中,會(huì)產(chǎn)生大量的蝕刻液廢水;
這類廢水通常分為酸性和堿性兩種,堿性蝕刻液所含主要成分為銅氨絡(luò)合物,酸性蝕刻液所含主要成分為氯化銅;這類廢水中的氨氮含量通常都比較高,如果將蝕刻液直接排放,不但會(huì)嚴(yán)重污染水體,造成環(huán)境污染和生態(tài)破壞,同時(shí)也會(huì)損失大量的氨氮,造成資源的極大浪費(fèi);由此可見,需要一種蝕刻液回收系統(tǒng),能將蝕刻液中的氨氮進(jìn)行回收,就要考慮蝕刻液回收氯化銨工藝。
蝕刻液回收氯化銨工藝中主要如下:
蝕刻液回收氯化銨的處理系統(tǒng),包括中和處理段、壓濾段、離子交換處理段、蒸發(fā)段和后處理段;
中和處理段包括酸性蝕刻液儲(chǔ)罐、堿性蝕刻液儲(chǔ)罐和用于合成氯化銨的中和反應(yīng)罐,中和反應(yīng)罐上設(shè)有出料口、與酸性蝕刻液儲(chǔ)罐連通的酸液入口和與堿性蝕刻液儲(chǔ)罐連通的堿液入口;
壓濾段包括用于分離出氯化銨溶液的壓濾裝置,壓濾裝置上設(shè)有進(jìn)料口和濾液口,進(jìn)料口與中和反應(yīng)罐的出料口連通;
離子交換處理段包括用于分離氯化銨和銅離子的離子交換柱,離子交換柱呈波浪形,且離子交換柱包括對(duì)稱設(shè)置的第一半柱和第二半柱,第一半柱和第二半柱可拆卸連接,且第一半柱和第二半柱之間密封形成用于存放離子交換樹脂的管道,管道的兩端分別設(shè)有進(jìn)液口和出液口,進(jìn)液口與濾液口連通;
蒸發(fā)段包括用于分離氯化銨和水的蒸發(fā)裝置,蒸發(fā)裝置上設(shè)有蒸液入口和濃縮液出口,蒸液入口與出液口連通;后處理段包括用于制備氯化銨晶體的結(jié)晶裝置和用于分離出氯化銨晶體的脫水裝置,結(jié)晶裝置上設(shè)有晶體出口和與濃縮液出口連通的濃縮液入口,脫水裝置上設(shè)有與晶體出口連通的晶體入口。